納米加工選用電子束光刻的參數

發(fā)布日期：2022-05-24      瀏覽次數：836

 

企業(yè)介紹：Raith 是納米加工、電子束光刻、FIB SEM 納米加工、納米工程和逆向工程應用的精密技術(shù)制造商。
客戶(hù)包括涉及納米技術(shù)研究和材料科學(xué)各個(gè)領(lǐng)域的和其他組織，以及將納米技術(shù)用于特定產(chǎn)品應用或生產(chǎn)化合物半導體的工業(yè)和中型企業(yè)。
Raith 成立于 1980 年，總部位于德國多特蒙德，擁有 250 多名員工

英國raith電子束光刻應用：化合物半導體器件

光電

衍射光學(xué)元件

集成電路分析

納米科學(xué)

微工程和納米工程

量子技術(shù)

納米光子學(xué)


英國raith電子束光刻產(chǎn)品：
電子束光刻系統
EBL系統
FIB-SEM系統
大面積SEM成像
納米光刻升級套件
無(wú)掩模激光光刻系統

英國raith電子束光刻產(chǎn)品型號：
EBPG Plus
VOYAGER
Raith150
eLINE Plus
PIONEER Two

英國raith電子束光刻產(chǎn)品描述：
具有分辨率和熱屏蔽的電子束寫(xiě)入器
RAITH150 Two 已成為通用高分辨率電子束光刻系統的產(chǎn)品。它在的研究和納米技術(shù)得到應用，并已證明其在24/7 全天候使用中的穩健性。RAITH150 兩電子束寫(xiě)入器旨在幫助從面向單一器件的研究向小批量納米器件制造的過(guò)渡，從而彌合學(xué)術(shù)和工業(yè)研發(fā)之間在工業(yè)設備原型設計方面的差距應用程序。

·
產(chǎn)品屬性
分辨率電子束光刻
·自動(dòng)晶圓級電子束寫(xiě)入
·30 kV Gemini 柱技術(shù)
·低電壓曝光和成像
·隔熱罩，和
·*的分室設置，
RAITH150 Two 可以曝光小于 5 nm的結構，適用于從幾毫米到8 英寸晶圓的樣品尺寸。
憑借其低 kV 成像能力，RAITH150 兩電子束寫(xiě)入器還允許對表面敏感的高分辨率檢測和過(guò)程控制。利用 SEM 成像和尺寸計量的所有軟件功能，可以使用與器件制造相同的工具有效地縮短器件優(yōu)化過(guò)程。

特點(diǎn)：
線(xiàn)寬
數字模式發(fā)生器
樣品處理
≤8納米
20兆赫